高纯钴颗粒,电解钴片,Co4N块 蒂姆新材料钴靶材
In-G4503 | 铟 颗粒 | 99.995% 1-6mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
Au-T4007 | SEM金 靶材 | 99.99% φ57*0.1mm | SEM电镜镀膜 |
Pt-T4007 | SEM铂 靶材 | 99.99% φ57*0.1mm | SEM电镜镀膜 |
Pd-T3513 | 钯 靶材 | 99.95% φ50*3mm | 磁控溅射镀膜 |
Al-T5014 | 铝 靶材 | 99.999% φ50*4mm | 磁控溅射镀膜 |
Ti-T4533 | 钛 靶材 | 99.995% φ60*3mm | 磁控溅射镀膜 |
Cr-T3535 | 铬 靶材 | 99.95% φ60*5mm | 磁控溅射镀膜 |
Mg-T3553 | 镁 靶材 | 99.95% φ76.2*3mm | 磁控溅射镀膜 |
Cu-T4515 | 铜 靶材 | 99.995% φ50*5mm | 磁控溅射镀膜 |
Ni-T4572 | 镍 靶材 | 99.995% φ100*2mm | 磁控溅射镀膜 |
Fe-T3551 | 铁 靶材 | 99.95% φ76.2*1mm | 磁控溅射镀膜 |
Co-T3522 | 钴 靶材 | 99.95% φ50.8*2mm | 磁控溅射镀膜 |
Bi-T4034 | 铋 靶材 | 99.99% φ60*4mm | 磁控溅射镀膜 |
Sb-T4054 | 锑 靶材 | 99.99% φ76.2*4mm | 磁控溅射镀膜 |
高纯钽块,钽颗粒Ta,钽板,钽屑 | 氧化钛靶材,磁控溅射氧化钛圆靶,TiO2靶材 |
高纯铌块,铌颗粒Nb,铌板,铌屑 | 氧化镍靶材,高纯NiO靶材,陶瓷氧化物靶材 |
高纯铪块,结晶铪棒,Hf块,铪颗粒 | 三氧化钨靶材,高纯氧化钨靶材颗粒,WO3靶材 |
海绵铪块,低锆铪颗粒,3NHf颗粒 | 三氧化钼靶材,高纯氧化钼颗粒,MoO3靶材 |
结晶铪颗粒,结晶锆颗粒,熔炼块材 | 氧化钽靶材,五氧化二钽颗粒,Ta2O5靶材 |
高纯锆块,锆颗粒Zr,海绵锆块 | 五氧化二铌靶材,Nb2O5靶材,氧化铌颗粒 |
熔炼用结晶锆棒,直径21mm,海绵锆 | 氧化锆靶材,二氧化锆圆片靶材,ZrO2靶材颗粒 |
高纯镍颗粒,镍块5N,进口镍块 | 二氧化铪靶材,HfO2靶材4N,氧化铪圆片颗粒 |
高纯钛颗粒5N,钛块5N,进口钛块 | 氧化铜靶材,氧化亚铜靶材Cu2O,4N靶材 |
高纯铜颗粒,5N铜块,熔炼用小颗粒 | 氧化钒靶材,VO2靶材4N,实验室用靶材 |
高纯铁颗粒,3N铁粒,熔炼用铁棒 | 4N氧化锌铝靶材,AZO靶材98:2,蒂姆新材料 |
高纯钴颗粒,电解钴片,Co4N块 | 4N氧化铟锡靶材,ITO靶材90:10,蒂姆新材料 |
电解铬片,高纯铬颗粒Cr,熔炼铬块 | 4NIGZO靶材,氧化铟镓锌靶材,蒂姆新材料 |
高纯镓锭,熔炼用Ga锭,5N镓 | 高纯氧化镧靶材,La2O3靶材4N,稀土靶材,蒂姆新材料 |
高纯镁颗粒3N3,镁块,镁豆 | 高纯氧化镨靶材,Pr2O3靶材4N,稀土靶材,蒂姆新材料 |
高纯锂颗粒,锂块,除氧剂锂块Li | 高纯氧化钕靶材,Nd2O3靶材4N,稀土靶材,蒂姆新材料 |
高纯锡颗粒,添加料Sn块,5N锡颗粒 | 高纯氧化镝靶材,Dy2O3靶材4N,稀土氧化物靶材 |
高纯铟颗粒,In颗粒5N,铟块 | 高纯氧化钆靶材,Gd2O3靶材4N,稀土氧化物靶材 |
高纯镧块,稀土镧锭,3N镧块状 | 高纯氧化铈靶材,Ce2O3靶材4N,陶瓷靶材,蒂姆新材料 |
高纯钇块Y,稀土钇锭,3N钇块状 | 高纯氧化钐靶材,Sm2O3靶材4N,陶瓷靶材,蒂姆新材料 |
高纯镝块Dy,稀土镝块状,3N钇锭状 | 高纯氧化铒靶材,Er2O3靶材4N,陶瓷靶材,蒂姆新材料 |
高纯钐块,稀土钐块状,3NSm锭状 | 高纯氧化钪靶材,Sc2O3靶材4N,陶瓷靶材,蒂姆新材料 |
高纯铈块Ce,稀土铈块状,3N铈锭状 | 高纯氧化钇靶材,Y2O3靶材4N,氧化物靶材,蒂姆新材料 |
高纯镨块Pr,稀土镨块状,3N镨锭状 | 高纯氧化镱靶材,Yb2O3靶材4N,氧化物靶材,蒂姆新材料 |
高纯钬块Ho,稀土钬块状,3N钬锭状 | 高纯氧化镥靶材,Lu2O3靶材4N,氧化物靶材,蒂姆新材料 |
高纯钆块Gd,稀土钆块状,3N钆锭状 | 氧化铟靶材,In2O3靶材4N,三氧化二铟靶材,蒂姆新材料 |
沈光蕙 经理
主营产品:溅射靶材、蒸发膜料、贵金属、稀土材料、合金块材等
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